装置一覧

 

 

 

電気炉群（管状炉タイプ）

1号炉

現在は主に金属微粒子の合成を行っています。
（100V、最高1300℃、30mm 反応管、自作）
2号炉

インピーダンス測定を行うための電気炉です。
（100V、最高1300℃、30mm反応管、自作）
3号炉

ウイスカーの合成やセラミックスの焼結に使用しています。
（200V、最高1500℃、60mm反応管、自作）
4号炉

セラミックスの焼結、各種熱処理を行う電気炉です。
（200V、最高1500℃、60mm反応管、自作）
5号炉

現在は主に球状セラミックスの合成を行っています。
（200V、最高1500℃、60mm反応管、DSPSH-39,シリコニット高熱工業）
6号炉

酸化物に貴金属を担持するために水素還元処理を行うための電気炉です。
（100V、最高1500℃、30mm反応管、DSPSH-20,シリコニット高熱工業）
7号炉

セラミックスの焼結、現在は主にバリスタ型ガスセンサの作成に使用しています。
（100V、最高1300℃、30mm反応管、自作）
8号炉

水素還元処理や酸化物の電気抵抗の温度依存性を測定する際に使用しています。
（100V、最高1300℃、30mm反応管、自作）
9号炉

現在は主に水素ガス感度を測定するために使用しています。
（100V、最高1300℃、30mm反応管、自作）
10号炉

超高温の熱処理を施す際に使用しています。
（200V、最高1800℃、30mm反応管、TS-4B06, NISHIMURA KOGYO）

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マッフル炉

1号マッフル炉

FM-27, YAMATO, 最高温度1150℃
2号マッフル炉

2-2743-01 PNR-12K, ISUZU, 最高温度1150℃
3号マッフル炉

KDF, デンケン, 最高温度1050℃
4号マッフル炉

自作のマッフル炉です。100V電源を並列に２つ導入し、シリコニット発熱体を用いることで、1500℃付近まで昇温する能力を有します。

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マイクロ波発生装置

マイクロ波発生装置

現在はおもに窒化アルミの合成を試みています。窒素ガス中のアルミニウム粉末にプラズマを照射させることで窒化アルミの合成ができないか日々試みています。
マイクロ波発生装置

半導体セラミックスウイスカーにマイクロ波を照射するとプラズマ発光します。その時のウイスカーの導電率とマイクロ波発光の特性の関係を詳しく調べています。
箱型空洞共振器

この金属製の箱（箱型空洞共振器）の中のガラス管にマイクロ波が照射されます。ガラス管中には各種ガスを流通させることができます。
マイクロ波発生装置

トリクロロエチレン、フロンガス等のマイクロ波低温プラズマ分解を試みている装置です。
マイクロ波発生装置

右がマイクロ波の出力計で、左がマイクロ波の反射計です。つまみを回すことでマイクロ波の出力が強くなり、最高200W のマイクロが出力させます。

  

 

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各種測定機器

ガスクロ

GC-14B SHIMAZU　各種ガスの定量分析に力を発揮します。３年次に行われる学生実験においては、実際に３年生が操作し測定を行っています。
高速ガスクロ

M200 日本タイラン　並列にカラムが２つ装備されており、自動吸引式でサンプルガスを吸引したら同時に２つのカラムへガスが送られ、それぞれ同時にガス分析が高速で行える優れものです。しかも小型で移動可能であるため、大変利用しやすい装置です。
BET

自作の装置ですが、精度も高い装置です。また、学生実験の季節は、ほぼ毎日稼働し３年生が実際に操作し測定しています。
GC・MS

GC-17A, QP-5000 SHIMAZU 　ガスの定性分析で力を発揮しています。現在は、アミン系ガス、アルデヒドガス、フロン系ガスおよび有機系ガスの分析を行っています。
昇温脱離装置

流通系内に整粒した試料をセットし、その試料にガスを吸着させその後試料の温度を上げることで、脱離してくるガスをガスマスに導きます。（自作装置）
インピーダンス
アナライザー

INPEDANCE/GAIN-PHASE ANALYZER SI1260 イオン導電性を示すセラミックスの復素インピーダンス解析に使用しています。この装置により、セラミックスの粒界・粒内・電極界面の状態を解析することが出来ます。
電子天秤

毎日のようにお世話になります。けど、機嫌が悪い朝などは "CAL" と突然表示して動かなくなるのが悪い癖です。
瞬間マルチ測光計

300 nm から 1200 nm までの波長範囲の光を光ファイバーによりフォトマルチディテクターに導き、瞬時にして波長と強度の解析が可能です。プラズマ発光の分析や薄膜の光透過率、反射率の測定などに使用しています。
IR

赤外領域の光透過率の測定に用います。
UV

可視光領域の光透過率の測定に用います。
pH メーター

pHメーターは、当研究室では主に、窒化アルミニウム粉末の耐水性の評価に用いてます。

    

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自作の測定用装置

ガラス細工

このように自作の装置を作成するためには、ガラス細工が必要不可欠です。
ガス感度測定用装置

酸化性ガス（オゾン、一酸化窒素、二酸化窒素）に対するガス感度の測定ができます。
前処理装置

ガスセンサを評価する前に、経時変化をできるだけさけるために、約一週間の熱処理を行いますが、そのための装置です。
ガス感度測定用装置

メルカプタンガスに対するガス感度を測定しています。
ガス感度測定用装置

アルデヒドガスに対するガス感度を測定しています。
ガス感度測定用装置

バリスタ型ガスセンサの主に水素ガスに対するガス感度を測定しています。
ガス感度測定用装置

バリスタ型ガスセンサの主に酸化性ガスに対するガス感度を測定しています。

  

 

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その他の機器

（電気炉の部屋）

超音波洗浄器

シリコン基板の洗浄や、粉末の分散処理などに用いてます。
クリーンボックス

埃を極端に嫌う材料の合成などはここで行います。
ハロゲンランプハウスと電源およびスターター

現在はランプにキセノンを使用しています。ガラス基板上に作成した透明導電性薄膜の光透過率や反射率の測定用の光源です。
乾燥器

洗浄後の試料の乾燥に用います。
真空ポンプ

真空に引くための基本的な機械です。これはロータリーポンプです。到達真空度は低いのですが、排気速度が早く丈夫で汎用性があります。このポンプは当研究室で最も大きいものですが、大小合わせて６台ほどが研究室で稼働中です。
プレス器

センサ材料の作成などセラミックスの作成のためには欠かせない機器です。
遊星型ボールミル

セラミックス粉末の混合に威力を発揮します。通常のボールミルよりも短時間・高効率に混合粉砕が出来ます。
真空乾燥器

真空下で試料の温度を１５０度以上に昇温し乾燥します。表面処理した窒化アルミニウムなどの乾燥に使用しています。

 

（センサ部屋・バリスタ部屋）

ボール盤

自作の装置には欠かせません。横に少しだけ見えているのがグラインダーです。 当研究室では装置は自作が基本です。
ドラフト

薬品の取り扱いなどはここで行います。
乾燥器

YAMATO DX31 試料や器具の乾燥に使います。
スピンコート機

ゾル・ゲル法で試料を作成する際に使用します。
プラズマCVD装置

CH300型,ULVAC（真空チャンバー）+ T847A, アルバックのチャンバーを購入し、高周波電源、マスフローコントローラー、小型ヒーターなどを組み入れ、窒化アルミニウム薄膜の合成を試みています。
充放電測定装置

研究室で作成したリチウム酸化物系二次電池の充放電試験を行っています。
ドライボックス

主に、リチウム電池の作成に使用します。この中をアルゴンガスで置換して使用します。水分や大気中の酸素と反応する物質を取り扱う場合はこの中で行います。 両手をいれるゴムの手袋が見えています。